في تصنيع الخلايا الكهروضوئية، يكون لتنظيف الرقائق تأثير مباشر على الطلاء والأداء الكهربائي اللاحقين. غالبًا ما تواجه البنى التقليدية القائمة بشكل أساسي على الإدخال/الإخراج المحلي صعوبات عندما تكون هناك حاجة إلى المزيد من نقاط المراقبة أو التشخيص عن بعد أو تحسين العمليات.

في أحد المشاريع، اعتمد نظام تنظيف الرقائق على حل PLC من Omron بالإضافة إلى الإدخال/الإخراج عن بعد RB. يتيح تكوين 3×RB-1110 و 3×16DI و 3×16DO و 1×AI و 1×AO المراقبة والتحكم المركزيين في حالة الآلة وضغط الماء وتركيز المواد الكيميائية.

تتبع المدخلات والمخرجات الرقمية المحركات وأبواب السلامة والمستويات والإنذارات. تقرأ القنوات التناظرية إشارات الضغط أو التدفق أو التركيز، بينما تتحكم المخرجات التناظرية في الصمامات والمضخات للحفاظ على عملية التنظيف ضمن نافذة تشغيل محددة.

باستخدام الإدخال/الإخراج عن بعد RB، يمكن لصانع المعدات:

• تجميع المستشعرات والمشغلات المتناثرة حول الآلة في محطات عن بعد موحدة؛

• حجز سعة الإدخال/الإخراج لنقاط المراقبة المستقبلية أو تحسين الوصفات دون إعادة توصيل الأسلاك الرئيسية؛

• تغذية البيانات إلى الأنظمة عالية المستوى لتحليل الاتجاهات والتحقيق في الأسباب الجذرية، مما يحسن اتساق التنظيف.

يتيح ذلك لمصنعي الخلايا الكهروضوئية ترقية أقسام تنظيف الرقائق الخاصة بهم إلى وضع يعتمد على البيانات بشكل أكبر دون تغيير نظام PLC الرئيسي الخاص بهم.